狹縫涂布設備 Slot-Die

          簡要描述:多段式供液,涂布膜層均勻性高

          通過3個激光傳感器,實現快速自動對刀、防撞刀

          搭配高精度注液泵

          可采用鈣鈦礦溶劑驗收

          • 產品型號:
          • 廠商性質:代理商
          • 更新時間:2025-06-26
          • 訪  問  量:396

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          產品介紹:

          狹縫涂布設備 Slot-Die


          技術特點:
          • 多段式供液,涂布膜層均勻性高

          • 通過3個激光傳感器,實現快速自動對刀、防撞刀

          • 搭配高精度注液泵

          • 可采用鈣鈦礦溶劑驗收

          狹縫涂布設備 Slot-Die
          技術參數:
          狹縫涂布設備 Slot-Die

          真空閃蒸及退火設備 VCD & Annealing

          技術特點:
          • 集成閃蒸和退火工藝,成膜環境和成膜過程高度可控

          • 大面積樣品退火受熱均勻,保證相變一致性

          • 快速去除濕膜中的殘余溶劑,均勻的過飽和

          • 變頻調速羅茨泵實現抽氣速率可控

          狹縫涂布設備 Slot-Die
          技術參數:
          狹縫涂布設備 Slot-Die

          激光劃刻設備 Laser Scriber

          技術特點:
          • P1、P2、P3飛秒、皮秒紅外激光可選

          • 高度定制化,膜面/玻璃面劃刻可選,平頂光斑可選

          • 精度高,具備逐線功能,線間距小

          • 工藝成熟,邊緣光潔,無火山環及毛邊

          狹縫涂布設備 Slot-Die
          技術參數:
          狹縫涂布設備 Slot-Die

          蒸鍍設備 Evaporation System

          技術特點:
          • 多源共蒸,實現大面積鍍膜

          • 熱場和溫控精確

          狹縫涂布設備 Slot-Die

          技術參數:
          狹縫涂布設備 Slot-Die

          原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

          技術特點:
          • 精確控制薄膜厚度

          • 薄膜均勻性高

          • 溫控精度高

          • 全自主工藝腔室設計,空間型和時間型可選,多片和單片可選

          狹縫涂布設備 Slot-Die
          技術參數:
          狹縫涂布設備 Slot-Die


          磁控濺射設備  Sputtering System

          技術特點:
          • 工藝穩定性高

          • 自研氧化鎳反應濺射控制器

          • ITO/NiOx靶采用圓柱靶,靶材利用率高

          • 靶-基距可調,低損傷TCO導電膜鍍膜

          狹縫涂布設備 Slot-Die
          技術參數:
          狹縫涂布設備 Slot-Die


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